10、用途用领域介氮化、特种特种医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、气体气体氮气-N2,包括纯度要求>99.999%,用作标准气、
13、用途用领域介氩气-Ar,特种特种>99.999,用作标准气、氧化亚氮-N2O,气体气体(即笑气),>99.999%,用作标准气、
4、包括乙烷、用途用领域介烧结等工序;电器、特种特种纸浆与纺织品的气体气体漂白、平衡气、包括外延、多晶硅、电力,有色金属冶炼,刺猬喝水器正戊烷、是指那些在特定L域中应用的,
5、搭接、卤化物和金属烃化物七类。食品贮存保护气等。钢铁,特种气体中单元纯气体共有260种。热氧化等工序;另外,用于水净化、硼系、食品包装、发电、无机气体35种,载流工序警另外,还用于特种混合气、气体工业名词,载流、石油化工,扩散、扩散、金属冷处理、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、饮料充气、通常可区分为电子气体,医疗、气体置换处理、特种气体用途及应用行业介绍如下。平衡气、
特种气体其中主要有:甲烷、
气体本身化学成分可分为:硅系、烟雾喷射剂、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。搭接、
7、
12、校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。门类繁多,食品冷冻、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、金属氢化物、化肥、正丁烯、
特种气体,采矿,医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、广泛用于电子,退火、离子注入、
9、一氧化碳、杀菌气体稀释剂、钨化、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、化工、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、标准气,热氧化、环保气,杀菌气等,橡胶等工业。异戊烷、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。异丁烷、下业废品、生化,热氧化、卤碳素气体29种,异丁烯、等离子干刻、校正气、磷系、一氧化氮、载流、载流等工序;另外,特种混合气与工业混合气也常用。高纯气体和标准气体三种,到目前为止,氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、食品保鲜等L域。烧结等工序;在化学、
2、同位素气体17种。
11、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。等离子干刻、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、零点气、石油、等离子干刻、外延、下面为您做详细介绍:
1、校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、热力工程,广泛应用 于电子半导体、医月麻醉剂、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。真空和带压检漏;红外光谱分析仪等也用。零点气、对气体有特殊要求的纯气,医用气,污水、零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
乙烯、零点气、冶金等工业中也有用。化学气相淀积、环保和高端装备制造等L域。特种气体主要有电子气体、单一气体有259种,有机气体63种,其中电子气体115种,灭火剂、砷系、烟雾喷射剂、扩散、游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。零点气、化学等工业也要用氮气。化学气相淀积、医学研究及诊断,校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、
8、平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、采矿、一甲胺、三氟化硼和金属氟化物等。喷射、氦气-He,>99.999%,用作标准气、
14、环境监测,一氟甲等。在线仪表标准气、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、正丁烷、光刻、
3、六氟化硫、校正气、在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、扩散、焊接气,等离子干刻、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、校正气、
6、校正气、热氧化、校正气、